LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) este o tehnologie de bază a proceselor semiconductoare. Iată cum funcționează: în condiții de-presiune scăzută, compușii gazoși sunt încălziți pentru a declanșa reacții, lăsând pelicule subțiri solide stabile pe suprafețele substratului. Este folosit în principal pentru filme cheie precum nitrură de siliciu, oxid de siliciu și siliciu policristalin-perfect pentru nevoile de proces de bază ale circuitelor integrate, dispozitivelor optoelectronice și domenii similare.
Nice-Tech a dezvoltat în mod independent două modele LPCVD: orizontal și vertical. Ambele se remarcă prin controlul de înaltă-precizie a temperaturii și uniformitatea de-film de top, acoperind totul, de la verificarea cercetării și dezvoltării până la producția la scară-largă. Modelul orizontal este excelent pentru napolitane de 8-inchi și mai mici-, comută fără probleme între procese de oxidare, difuzie, recoacere și alte procese, făcându-l ideal pentru producția în loturi și verificările procesului. Cea verticală, cu designul său modular și integrarea automată, gestionează wafer-uri de 6-12 inchi. Se potrivește mai bine liniilor de producție inteligente care necesită o depunere eficientă. Împreună, oferă soluții stabile și fiabile de depunere la presiune joasă pentru fabricarea semiconductoarelor - fără configurare complicată, doar performanță constantă atunci când contează.
I. Puncte de selecție de bază
1. Dimensiunea plăcilor: LPCVD orizontal funcționează cu napolitane de 8-inchi și mai mici. LPCVD vertical acoperă o gamă mai largă (6-12 inchi), așa că este ideal-pentru producerea în masă a napolitanelor de dimensiuni mari.
2. Nevoi de scenariu: dacă faceți cercetare și dezvoltare sau verificări cu mai multe-procese, LPCVD orizontal este cel mai bun pariu-pentru schimbarea simplă a procesului (oxidare, difuzie, recoacere etc.) se potrivește perfect acestor nevoi. Pentru producția de masă la scară largă-sau integrarea cu linii de producție inteligente, Vertical LPCVD este mai bun datorită designului și automatizării sale modulare.
3. Filme și performanță: Ambele modele depun în principal nitrură de siliciu, oxid de siliciu și siliciu policristalin. Dar dacă aveți nevoie de filme speciale, sunt disponibile soluții personalizate în funcție de cerințele dumneavoastră specifice de proces. În ceea ce privește performanța, LPCVD orizontal are o uniformitate Mai mică sau egală cu ±2%, în timp ce Verticală atinge Mai puțin sau egală cu ±3%. Ambele operează între 500 de grade și 800 de grade , ceea ce se potrivește cu procesul de depunere chimică în vapori la presiune joasă-pentru majoritatea filmelor subțiri de semiconductori.
II. Scenarii cheie de aplicare
1. Circuite integrate (CI): este un pas cheie în realizarea CMOS, IGBT și a altor cipuri-pregătind oxizi de poartă și dielectrici interstrat care influențează direct performanța cipului.
2. Dispozitive optoelectronice: Pentru dispozitivele VCSEL, acesta depune filme optice care modifică atât proprietățile optice, cât și cele electrice pentru a face ca dispozitivele să funcționeze mai bine.
3. Semiconductori cu bandă interzisă-largă: funcționează perfect cu depunerea de pelicule subțiri de-carbură de siliciu (SiC), satisfacând nevoile dispozitivelor de putere-înalte cu temperatură.
4. Cercetare științifică: excelent pentru-experimente în loturi mici-fie că testați materiale noi, cum ar fi niobatul de litiu sau explorați noi procese, cum ar fi depunerea filmului cu cip cuantic.
III. Grupuri de clienți adecvate
1. Instituții de cercetare și universități: LPCVD orizontal este calea de urmat. Capacitatea sa de a comuta între diferite procese îl face foarte util pentru proiecte de cercetare în loturi mici-cu nevoi diverse.
2. Întreprinderi de semiconductori la scară-medie și mică: LPCVD orizontal oferă o valoare excelentă. Este suficient de flexibil pentru cercetare și dezvoltare pe loturi mici de-, iar structura sa matură, dovedită pe piață-, acceptă, de asemenea, producția de masă de napolitane de 8-inchi și mai mici - perfect dacă trebuie să combinați mai multe procese.
3. Întreprinderi de producție la scară mare-: LPCVD vertical este o necesitate. Acoperă napolitane de 6-12 inchi și se integrează fără probleme cu liniile de producție inteligente, sporind eficiența pentru producția la scară largă.
4. Producători de materiale optoelectronice și-large: alegeți în funcție de scara dvs. de producție. LPCVD vertical este ideal pentru producția de masă, în timp ce LPCVD orizontal se potrivește fazelor de cercetare și dezvoltare în care ar putea fi necesar să testați diferiți parametri.
5. O notă rapidă despre întreținere: ambele dispozitive au nevoie de obicei de întreținere la fiecare 6 până la 12 luni-lucruri precum curățarea cavității și calibrarea sistemului de control al temperaturii. Momentul exact depinde de frecvența de utilizare și de complexitatea procesului, dar echipa noastră de post-vânzare trimite mementouri regulate pentru a menține lucrurile pe drumul cel bun.
